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高沃が香港で国際商標年会に参加した

追加時間:2014-05-21 16:50:48   閲覧回数:      【 】   印刷   ウィンドウを閉じる


2014年5月10至14日、国際商標協会(INTA)第136回の年会は香港で開かれた。グローバル知的財産権分野の盛事は初めてアジアで行われた。INTA年会は、グローバル知的財産権業界で最大、最重要、最も活力のある盛会である。今回の盛会では、高沃の代表団は100ヶ国・地域の8500名余りの知的財産権所有者と知的財産権サービス機関の代表と集まり、積極的に同業者と広くて深く交流、学習し、「より高品質で高効率の知的財産権代理サービスを顧客に提供すること」について検討し、更にグローバル法律事務所の協力ネットワークを固めた。

 
 
 


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